光耦可控硅与固态继电器有何区别?

如题所述

可控硅通过的是数字设备:
电压低
电流低
速度快
封装小

固态继电器是功率设备:
电压高
电流高
速度慢
封装大追问

我说的是“光耦可控硅”(可控硅型的光耦)而不是“可控硅”与固态继电器的区别!

追答

哦,我改改:
可控硅光耦是光耦增加可控硅的特性而制成的数字控制设备:
控制端电压低,电流低,多用于数字系统控制,用光隔离,有光耦的高隔离电压特性。
控制端接通后后级接通,在后级有电流流动时关闭前级后级不截止,直至被控端电流停止恢复直至收到下次前级信号,特性与可控硅相同。

固态继电器是功率设备:
控制端电压较高,电流相对较大,多用于模拟系统控制,无触点电子开关,隔离电压相对较低。
前级电路接通后级接通,前级电路关闭后后级关闭。

在使用中,参数相同可以通用,但是可控硅光耦一般封装较小,固态继电器较大。

温馨提示:内容为网友见解,仅供参考
第1个回答  2015-08-04
1、性能特点:
光耦可控硅:电压低,电流低,速度快,封装小。
固态继电器:电压高,电流高,速度慢,封装大。

2、工作原理:
可控硅是P1N1P2N2四层三端结构元件,共有三个PN结,分析原理时,可以把它看作由一个PNP管和一个NPN管所组成。
当阳极A加上正向电压时,BG1和BG2管均处于放大状态。此时,如果从控制极G输入一个正向触发信号,BG2便有基流ib2流过,经BG2放大,其集电极电流ic2=β2ib2。因为BG2的集电极直接与BG1的基极相连,所以ib1=ic2。此时,电流ic2再经BG1放大,于是BG1的集电极电流ic1=β1ib1=β1β2ib2。这个电流又流回到BG2的基极,表成正反馈,使ib2不断增大,如此正向反馈循环的结果,两个管子的电流剧增,可控硅使饱和导通。
由于BG1和BG2所构成的正反馈作用,所以一旦可控硅导通后,即使控制极G的电流消失了,可控硅仍然能够维持导通状态,由于触发信号只起触发作用,没有关断功能,所以这种可控硅是不可关断的。
由于可控硅只有导通和关断两种工作状态,所以它具有开关特性,这种特性需要一定的条件才能转化。
状态说明
从关断到导通
1、阳极电位高于是阴极电位
2、控制极有足够的正向电压和电流
两者缺一不可
维持导通
1、阳极电位高于阴极电位
2、阳极电流大于维持电流
两者缺一不可
从导通到关
1、阳极电位低于阴极电位
2、阳极电流小于维持电流
任一条件即可

3、基本伏安特性
(1)反向特性
当控制极开路,阳极加上反向电压时,J2结正偏,但J1、J2结反偏。此时只能流过很小的反向饱和电流,当电压进一步提高到J1结的雪崩击穿电压后,接差J3结也击穿,电流迅速增加,特性发生了弯曲,弯曲处的电压URO叫“反向转折电压”。此时,可控硅会发生永久性反向击穿。
(2)正向特性
当控制极开路,阳极上加上正向电压时,J1、J3结正偏,但J2结反偏,这与普通PN结的反向特性相似,也只能流过很小电流,这叫正向阻断状态,当电压增加,特性发生了弯曲,弯曲处的是UBO叫,正向转折电压
阳极加正向电压
由于电压升高到J2结的雪崩击穿电压后,J2结发生雪崩倍增效应,在结区产生大量的电子和空穴,电子时入N1区,空穴时入P2区。进入N1区的电子与由P1区通过J1结注入N1区的空穴复合,同样,进入P2区的空穴与由N2区通过J3结注入P2区的电子复合,雪崩击穿,进入N1区的电子与进入P2区的空穴各自不能全部复合掉,这样,在N1区就有电子积累,在P2区就有空穴积累,结果使P2区的电位升高,N1区的电位下降,J2结变成正偏,只要电流稍增加,电压便迅速下降,出现所谓负阻特性。
这时J1、J2、J3三个结均处于正偏,可控硅便进入正向导电状态---通态,此时,它的特性与普通的PN结正向特性相似

4、触发导通
在控制极G上加入正向电压时因J3正偏,P2区的空穴时入N2区,N2区的电子进入P2区,形成触发电流IGT。在可控硅的内部正反馈作用的基础上,加上IGT的作用,使可控硅提前导通,导致伏安特性OA段左移,IGT越大,特性左移越快。本回答被网友采纳
第2个回答  2012-04-02
固态继电器里的器件就是光耦加可控硅追问

“可控硅型的光耦”与“固态继电器”的使用原理是一样的吧?

光耦可控硅与固态继电器有何区别?
可控硅通过的是数字设备:电压低 电流低 速度快 封装小 固态继电器是功率设备:电压高 电流高 速度慢 封装大

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